“目前拥有130nm制程的企业，只有我们ASML和Nikon，Canon三家，现在准备突破这个阙值的企业，也同样只有我们三家。Nikon和Canon在两年前就开始研发ArF光刻机，在氮气介质下，193nm最低可以做到65nm制程。这个选择当然是最稳妥的一条路，就像从G线的436nm到i线的365nm，再到KrF的248nm，以及现在他们正在做的推进到193nm，165nm，157nm。”
斯维拉克不断来回更换着手里面的幻灯片，嘴上不带丝毫的停顿：“问题是，现在越往下推，技术上的困难都是呈现几何级数的增长，而且不稳定性也成倍的激增，也许他们可以做到65nm制程，可这条路，基本上到了65nm这个极限，就宣告走到了一个封闭的胡同。”
“而采用流体介质，目前最好的选择是纯净水，在193nm波长下，经过1.44的水介质折射，等效于134nm光源，这就等于ASML跳过了193nm，165nm，157nm这三个节点，跨越了干式步进式光刻机三个代层，遥遥领先的把Nikon和Canon远远甩在身后！”
斯维拉克慷慨激昂的讲了大约半个小时，然后躬身结束，赵长安首先鼓掌，苏博等人也热烈的鼓掌跟进。
放映厅的大灯亮了起来，斯维拉克关了放映机，下面就是一纳米北美的提问环节。
赵长安对这些并不是太懂，不过好在苏博是个专家。
其实赵长安根本就无所谓懂不懂，作为一条曾经跃出水面的鱼，他已经知道了如果分支线没有大的改动下的ASML的未来，所以即使他还懂一点，就算什么都不懂，也不妨碍他对投资ASML的信心。
只不过总得像模做样的做个戏给大家看看，让他们觉得自己这边也是经过了艰难的思考和决定，最终选择豪赌一把大的。
“光刻机所牵扯的领域很多，其中光源，光学，工作平台是最基础的三大系统，掩膜版，光刻胶，辅助测量聚焦环境传输系统，——”
苏博说了一堆在马丁和斯维拉克听着是废话的话，其实他是在和赵长安王渝讲解，然后说道：“对于氟化氩气体193nm激光源通过折射得到等效于134nm光源，我没有什么异议，然而在液体环境里和气体介质中，流体阻力相差12倍，而且对于不同环境下的光刻胶和掩膜版曝光的技术要求，也会有着很大的区别。”
“这个确实是一些难题，不过就像Nikon和
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