没有人能想到，光刻工厂居然引起了这么大的反应。
但是，当这件事情真的发生了之后，就没有人还能控制得住了。
风车国的阿斯麦也罕见地站了出来，对于光刻工厂方案进行评价。
作为目前光刻设备领域的龙头企业。
更是占据市场主流的巨无霸。
阿斯麦毫无疑问是这个领域的权威。
所以阿斯麦说出来的内容，自然就带有极强的权威性。
“尊敬的业界同仁和合作伙伴：近期，我们注意到某些市场传闻称，某些企业正试图通过所谓的‘光刻工厂’方案，即利用大型同步辐射光源设施替代传统EUV光刻机，来‘绕开’全球半导体产业的技术壁垒，作为全球光刻技术的领导者，ASML有必要从技术规律与产业现实出发，对此类设想提出专业质疑。”
“一、技术可行性：物理定律的边界不可逾约……”
“光源本质差异，同步辐射光源的物理特性与EUV光刻所需的13.5nm高功率、高稳定性激光等离子体光源存在根本性矛盾……”
“系统集成灾难，光刻机是10万级精密零件的系统集成艺术，而“光刻工厂”试图将光源、光学系统、掩模台、晶圆台等模块分散于百米级设施中，震动、温度、尘埃控制等基础工程问题足以摧毁任何纳米级的精度要求……”
“二、商业逻辑：背离产业规律的空想。”
“成本黑洞，同步辐射光源的建设与维护成本高达百亿，且单词暴光能耗堪比小型城市用电量，反观ASML的EUV光刻机，虽单价1.5亿欧元，但其每小时处理300片晶圆的效率已摊薄至每片芯片成本可忽略不计。若“光刻工厂”量产7nm芯片，其单位成本将是现有技术的千倍以上。”
“产业链割裂，半导体制造是全球化分工的典范。ASML的EUV光刻机依赖德-国蔡司镜头、白头鹰联盟国的Cymer激光器、樱花国的光刻胶等5000余家供应商的协同创新。所谓“光刻工厂”试图以举国之力重构全链条，但即便抛开技术障碍，其供应链效率也将落后国际水平至少15年——正如华-国的28nm DUV光刻机仍无法实现ASML 2007年TWINSCAN XT:1900Gi的可靠性与吞吐量。”
“三、战略误判：对产业生态的破坏性冲击。”
“扰乱市场秩序。来自华国的订单占ASML全球营收的25%，且需求集中于成熟制程。
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